자료코드: R60202102 / 2018년 10월 15일 발행 /B5 24
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◆조사개요
본 조사 리포트는 정기간행물 Yano Eplus 2018년 7월호에 게재된 내용입니다.
■리서치 내용
~LSI의 배선 미세화에 따라 층간 절연막은 저유전율화,
한편, 게이트막에는 고유전율 재료가 필요해 신 재료의 모색이 계속∼
1. 고기능 유전체 재료란
2. 저유전율(Low-k) 박막 재료
3. 고유전율(High-k) 박막 재료
4. 고주파대응 고유전율 벌크 재료
5. 고기능 유전체 재료의 시장규모 추이와 예측
【도·표 1. 저유전율 재료의 WW 시장규모 추이와 예측(수량·금액：2015-2020년 예측)】
【도·표 2. 고유전율 재료의 일본국내 및 WW 시장규모 추이와 예측(수량·금액：2015-2020년 예측)】
6. 고기능 유전체 재료에 관련한 기업 및 연구기관의 대응 동향
6-1. 간토화학 주식회사
6-2. 국립연구개발법인 산업기술종합연구소(産總硏)
6-3. 국립대학법인 도쿄공업대학
【그림 1. ECR스패터링 장치(JSW-AFTY AFTEX-3400)의 원리도(왼쪽)와 외관(오른쪽)】
【그림 2. Hf계 MONOS 트랜지스터의 구조】
【그림 3. HfN 게이트 적층 구조의 in-situ 과정에 의한 형성】
【그림 4. PtHfSi의 접촉저항 측정 소자】
【그림 5. 글로브박스 부설형 진공증착장치(ALS E-100 J)의 모식도(왼쪽)와 외관(오른쪽)】
【그림 6. 유기 게이트 절연막을 가진 톱게이트형 플렉서블 유기반도체 트랜지스터】
6-4. 국립대학법인 도쿄대학
(1) HfO2의 다원화에 의한 고성능화
(2) 구조제어에 의한 유전율 향상
(3) 고속 열처리에 의한 High-k막의 구조제어
(4) 산화물 계면의 쌍극자형성
6-5. 주식회사 Trichemica연구소
【표 1. Trichemica연구소의 고기능 유전체 재료 라인 업】
6-6. 일본zeon 주식회사
【그림 7. 「ZEONEX®」의 응용 사례(코넥터, 안테나)】
【그림 8. 「ZEONEX®」가 사용되는 고주파 전자부품】
6-7. 국립연구개발법인 물질재료연구기구(NIMS)
6-8. 리쇼공업 주식회사
7. 고기능 유전체 재료의 장래 전망
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