2021년 6월 21일 월요일

EUVL, 차세대극자외선리소그라피 - EUV 최신동향(한국어판)/야노경제연구소

 <일본시장보고서> EUV 최신동향(한국어판)

A4 31p/ 2021년 6월 17일 발간(Yano E-plus 2021년 2월호 게재내용 발췌)

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게재내용


1. 양산이 시작된 EUVL 프로세스


2. EUVL의 특징

 2-1. 미세묘화의 실현

 2-2. 스루풋(throughput)의 대폭 상승

 2-3. 마스크 패턴에 대한 선명도 향상


3. EUVL 양산 채용을 실현한 브레이크스루(break through)


4. EUVL 의 시장규모 추이와 예측

   (그림·표1) EUV의 WW 시장규모 추이와 예측(금액: 2018-2023년 예측)

   (표1) EUV 분류별 WW 시장규모 추이와 예측(금액: 2018-2023년 예측)

   (그림2) EUV 재료 분류별 WW 시장규모 추이와 예측(금액: 2018-2023년 예측)


5. EUV 관련 기업·연구기관의 대응동향

 5-1. Ushio전기 주식회사

  (1) SnLDP 기술개발의 행보

  (2) SnLDP 기술의 개요

   (그림3) SnLDP 방식의 원리를 나타내는 광원 발광부의 모식도

   (그림4) SnLDP 디스크부분(좌)과 그곳에서 EUV 발광하는 상태(우)

   (그림5) SnLDP 광원을 장착한 메인 캐비닛 S910 시리즈 외관

  (3) EUVL 마스크검사용 EUV 광원을 양산 프로세스용으로 첫 검수

   (그림6) SnLDP 광원을 탑재한 개발용 평가시설 외관(사진제공: TNO)

  (4) 차세대 반도체용 EUV 광원사업을 브랜드화하여 계속 주력


 5-2. 다이닛폰인쇄(大日本印刷) 주식회사(DNP)

  (1) 5nm 대응 EUVL용 포토마스크 프로세스의 개발

   (그림7) EUVL용 5nm 프로세스에 상응하는 고정밀도 포토마스크(좌), 패턴확대사진(우)

   (그림8) EUVL 프로세스에 의한 공정 단축

  (2) 멀티 전자빔 마스크 묘화장치의 개발·도입

   (그림9) 멀티 전자빔 마스크 묘화장치 모식도


 5-3. 국립대학법인 도쿄공업대학(東京工業大学)

  (1) EUV를 콤팩트하게 발생

  (2) 고분자 전해질 비누방울을 사용한 EUV 발생[3]

   (그림10) (a)Sn으로 코팅된 마이크로캡슐 타깃의 SEM상, (b)(a)의 확대상, (c)대응하는 Sn의 EDS매핑

   (그림11) 12.5nm EUV 발광 스펙트럼

   (그림12) 더블펄스법(좌) 및 이번에 사용한 비누방울 타킷(우)


 5-4. 공립학교법인 효고현립대학(兵庫県立大学)

   (그림13) 하리마과학곡원도시(좌)에 설치되어 있는 NewSUBARU 방사광시설(우)

  (1) EUVL용 마스크의 평가기술 개발

   (그림14) CSM 외관

   (그림15) 강도 콘트라스트(좌) 및 위상 콘트라스트(우)로 표시되는 마스크패턴의 재구성 이미지.  (a)크로스 패턴,

              (b)128 nm L/S 패턴,(c)프로그램된 위상 가로 세로 1mm 크기의 결함. 스케일바는 2mm

   (그림16) 집속광학용 FZP를 갖춘 마이크로 CSM 모식도

   (그림17) 마이크로 CSM으로 재구성된 이미지

  (2) EUVL용 레지스트의 개발·평가

   (그림18) EUV 광에 의한 2광 간섭 노광의 원리를 제시하는 모식도

   (그림19) EUV 간섭 노광에 의한 레지스트 패턴 형성 결과

   (그림20) 감도와 LER의 관계

  (3) 광학 소자용 반사율 측정계

   (그림21) X선 대형 광학소자 평가장치 외관(좌)과 내부구조(우)

  (4) 수소 분위기 하에서의 EUV용 마스크 재료평가

   (그림22) X선 NewSUBARU에서 수소폭로장치의 모식도


 5-5. 국립대학법인 홋카이도대학(北海道大学)

  (1) EUVL 광원용 플라즈마 생성 방식으로서의 LPP

  (2) 고효율 EUV 광원의 플라즈마 구조

   (그림23) EUVL 광원용 플라즈마 생성의 모습을 제시한 모식도

  (3) EUV 광원용 플라즈마의 LTS 측정

  (4) 전자밀도·온도의 2차원 분포 계측


 5-6. Lasertec 주식회사

  (1) EUV 마스크 결함검사장치의 라인업

   (그림24) EUV 마스크 결함검사장치 라인업

  (2) EUV 마스크 블랭크 결함검사장치 「ABICS E120」

   (그림25) EUV 마스크 블랭크 결함검사장치 'ABICS E120'의 외관

   (그림26) EUV 마스크 블랭크 검사에서 검출 가능한 결함 종류

  (3) EUV 패턴마스크 결함검사장치 ‘ACTIS A150’

   (그림27) EUV 패턴마스크 결함검사장치 'ACTISA150' 외관

   (그림28) APMI 검사의 특징

   (그림29) APMI가 적용 가능한 프로세스


6. EUVL의 장래전망




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